Керамика из карбида кремния: прецизионные компоненты, необходимые для полупроводниковых процессов (часть 2)
Процесс литографии
• Патрон для пластин из карбида кремния, керамическое квадратное зеркало, пленки для фотомаски.
Зажим для пластин Карбид кремния, керамическое квадратное зеркало, фотомаски. Литография в первую очередь фокусируется на экспонировании рисунков схем на кремниевых пластинах с использованием оптических систем. Точность этого процесса напрямую влияет на производительность и производительность интегральных схем. Являясь одним из передовых устройств в производстве чипов, литографические машины содержат до сотен тысяч компонентов. Как оптические элементы, так и компоненты литографической системы требуют предельной точности для обеспечения работоспособности и точности схемы. Карбид кремния-керамика находят применение в патронах для пластин и керамических квадратных зеркалах.
Структура машины для литографии
Вафельный патрон
Патрон для пластин в литографических машинах удерживает и перемещает пластины во время экспонирования. Точное выравнивание между пластиной и патроном имеет важное значение для точного воспроизведения рисунков на поверхности пластины. Патроны для пластин Карбид кремния, известные своим легким весом, высокой стабильностью размеров и низкими коэффициентами теплового расширения, уменьшают инерционные нагрузки, повышают эффективность движения, точность позиционирования и стабильность.
Керамическое квадратное зеркало
Синхронизация движения между патроном для пластин и столиком маски имеет решающее значение в литографических машинах, напрямую влияя на точность и производительность литографии. Квадратное зеркало, важнейшая часть системы измерения с обратной связью для сканирования и позиционирования держателя пластин, требует легких материалов с жесткими требованиями. Хотя керамика Карбид кремния обладает желаемыми характеристиками легкости, производство таких компонентов является сложной задачей. В настоящее время ведущие международные производители интегральных схем преимущественно используют такие материалы, как плавленый кварц и кордиерит.
Однако достижения в области технологий привели китайских специалистов к производству крупногабаритных, сложных по форме, очень легких, полностью закрытых квадратных керамических зеркал Карбид кремния и других функциональных оптических компонентов для литографических машин. Фотомаски Пленки Фотомаски, также известные как сетки, передавать свет через маски для формирования узоров на светочувствительных материалах. Однако когда EUV-свет облучает фотомаски, выделяется тепло, повышающее температуру до 600–1000 градусов по Цельсию, что потенциально может привести к тепловому повреждению. Поэтому на фотошаблоны обычно наносят слой пленки Карбид кремния. Многие иностранные компании, такие как АСМЛ, теперь поставляют пленки с коэффициентом пропускания более 90%, чтобы уменьшить необходимость очистки и проверки во время использования фотомаски, повышая эффективность и выход продукции на машинах EUV-литографии.
Плазменное травление и осаждение
Фотомаска, также известная как сетка, в первую очередь предназначена для пропускания света через маску и формирования узоров на светочувствительных материалах. Однако когда свет EUV (крайнего ультрафиолета) облучает фотомаску, он излучает тепло, повышая температуру до 600–1000 градусов по Цельсию, что потенциально может вызвать термическое повреждение. Поэтому, чтобы решить эту проблему, на фотомаску обычно наносят слой пленки карбида кремния (Карбид кремния). В настоящее время многие иностранные компании, такие как АСМЛ, начали поставлять пленки с прозрачностью более 90%, чтобы уменьшить необходимость очистки и проверки во время использования фотошаблонов, тем самым повышая эффективность и выход продукции на машинах EUV-литографии.
Плазменное травление и осаждение
• Кольца фокусировки и прочее
В производстве полупроводников в процессе травления используются жидкие или газообразные травители (например, фторсодержащие газы), ионизированные в плазму для бомбардировки пластин, избирательно удаляющие нежелательные материалы до тех пор, пока на поверхности пластины не останется желаемый рисунок схемы. И наоборот, осаждение пленки аналогично травлению, противоположному травлению: в нем используются методы осаждения для укладки изолирующих материалов между металлическими слоями, образуя тонкие пленки. Поскольку в обоих процессах используется плазменная технология, они склонны к коррозионному воздействию на камеру и компоненты. Поэтому компоненты внутри оборудования требуют хорошей плазменной стойкости, низкой реактивности к травильным газам фтора и низкой проводимости.
Традиционные компоненты оборудования для травления и осаждения (например, кольца фокусировки) обычно изготавливаются из таких материалов, как кремний или кварц. Однако с развитием миниатюризации интегральных схем спрос и важность процессов травления в производстве ИС продолжают расти. Высокоэнергетическая плазма необходима для точного травления кремниевых пластин на микроскопическом уровне, что позволяет использовать меньшую ширину линий и более сложные структуры устройств. Следовательно, карбид кремния (Карбид кремния) методом химического осаждения из паровой фазы (ССЗ) постепенно стал предпочтительным материалом покрытия для оборудования для травления и осаждения благодаря своим превосходным физическим и химическим свойствам, высокой чистоте и однородности. В настоящее время компоненты карбида кремния ССЗ в оборудовании для травления включают кольца фокусировки, газовые душевые головки, лотки и краевые кольца. В оборудовании для осаждения имеются крышки камер, вкладыши камер и графитовые опорные пластины с покрытием Карбид кремния.
Кольца фокусировки, графитовые опорные пластины с Карбид кремния-покрытием
Из-за низкой реакционной способности и проводимости карбида кремния, полученного методом ССЗ, по отношению к хлору и фтору, травильным газам, он стал идеальным материалом для таких компонентов, как фокусирующие кольца в оборудовании для плазменного травления. Компоненты карбида кремния ССЗ в оборудовании для травления включают кольца фокусировки, газовые душевые насадки, лотки, краевые кольца и многое другое. Если взять в качестве примера кольца фокусировки, то они являются важными компонентами, расположенными снаружи пластины и непосредственно контактирующими с ней. При подаче напряжения на кольцо плазма, проходящая через кольцо, фокусируется на пластине, что повышает однородность обработки. Традиционно кольца фокусировки изготавливались из кремния или кварца. Однако с развитием миниатюризации интегральных схем спрос и важность процессов травления в производстве ИС продолжают расти. Мощность плазменного травления и требования к энергии продолжают расти, особенно в оборудовании для травления с емкостной плазмой (КПК), где требуется более высокая энергия плазмы. В результате растет использование фокусировочных колец, изготовленных из карбидокремниевого материала.
СЯМЭНЬ МАСКЕРА ТЕХНОЛОДЖИ КО., ЛТД. является авторитетным и надежным поставщиком, специализирующимся на производстве и продаже технических керамических деталей. Мы обеспечиваем индивидуальное производство и высокоточную механическую обработку широкого спектра высокоэффективных керамических материалов, включая глиноземная керамика, циркониевая керамика, нитрид кремния, Карбид кремния, нитрид бора, нитрид алюминия и обрабатываемая стеклокерамика. В настоящее время наши керамические детали можно найти во многих отраслях промышленности, таких как механическая, химическая, медицинская, полупроводниковая, автомобильная, электронная, металлургическая и т. д. Наша миссия — предоставлять керамические детали самого высокого качества для пользователей во всем мире, и нам очень приятно видеть нашу керамику. детали эффективно работают в конкретных приложениях клиентов. Мы можем сотрудничать как в прототипном, так и в серийном производстве. Если у вас есть требования, свяжитесь с нами.
