Hовости

Независимо от того, нужен ли вам равномерный нагрев, эффективная заливка или точная обработка материалов, правильный тигель может существенно повлиять на ваши результаты. Выбор правильного тигля подразумевает понимание конкретных требований вашего технологического процесса.

Тигли из ПБН (пиролитического нитрида бора) ценятся за свою чистоту, термостойкость и долговечность. Они предотвращают загрязнение материала, что имеет решающее значение в процессах, чувствительных к примесям, и выдерживают быстрые перепады температур без растрескивания. Их электроизоляция подходит для непроводящих применений, а их разнообразные формы отвечают конкретным потребностям.

Керамика из метастабильного тетрагонального диоксида циркония, упрочняющая фазовое превращение, в основном включает в себя поликристаллический тетрагональный диоксид циркония (ТЗП), частично стабилизированный диоксид циркония (ПСЗ) и упрочненную циркониевую керамику (ЗТК), основанную на эффекте упрочнения фазовым превращением метастабильного тетрагонального диоксида циркония под действием напряжения.

В современной промышленности ионизация материала существенно влияет на производительность и срок службы оборудования. В литейной промышленности трубы стояка, ключ к машинам для литья под низким давлением, значительно влияют на качество и эффективность литья. Нитрид кремния стал предпочтительным материалом для труб стояка благодаря своим превосходным свойствам.

Валы ротора дегазации из керамики на основе нитрида кремния являются передовыми промышленными материалами с исключительной прочностью при высоких температурах (до 1200°C), износостойкостью, коррозионной стойкостью и стойкостью к окислению. Их превосходная термическая и химическая стабильность обеспечивает длительную работу в экстремальных условиях.

Технология тампонной печати широко используется в современных отраслях промышленности для таких поверхностей, как пластик, металл, стекло и керамика. С ростом спроса на высококачественные, долговечные отпечатки традиционные кольца для тампонной печати часто не оправдывают ожиданий. Кольца для тампонной печати из циркония обеспечивают превосходное и долговечное решение.

23 декабря такие средства массовой информации, как The Экономический Времена, сообщили, что Силиктрик Полупроводник, дочерняя компания Зохо Корпорация, откроет в Карнатаке первый в Индии завод по производству полупроводников, который будет заниматься комплексным производством карбида кремния.

Недавно Киосера объявила о разработке нового керамического материала на основе нитрида кремния для функционального тестирования микросхем следующего поколения. Этот новый материал обладает улучшенными свойствами теплового расширения и прочностью на изгиб, что позволяет производить тонкие пластины из нитрида кремния с чрезвычайно малым расстоянием между контактными зондами, что имеет решающее значение для тестирования микросхем следующего поколения.

Недавно компания КИОЦЕРА провела церемонию закладки фундамента своего завода по производству тонкой керамики для медицинских имплантатов, расположенного в Вайблингене, недалеко от Штутгарта, Германия. Это предприятие будет специализироваться на производстве высококачественных керамических головок, используемых в протезах тазобедренного сустава и других имплантатах. Ожидается, что проект будет завершен к сентябрю следующего года.

Недавно австралийская компания Альфа HPA начала строительство второй очереди крупнейшего в мире завода по производству глинозема сверхвысокой чистоты, расположенного в одном месте.

По данным QY Исследовать, объем мирового рынка керамики на основе карбида кремния (SiC), используемой в полупроводниках, в 2023 году составил 1,111 млрд долларов США. Прогнозируется, что благодаря устойчивому спросу со стороны перерабатывающих отраслей объем рынка керамики на основе карбида кремния к 2030 году вырастет до 1,578 млрд долларов США, а среднегодовой темп роста (CAGR) составит 5,09% в период с 2024 по 2030 год.

Группа исследователей из Университета Рицумейкан в Японии разработала новую технологию электрохимической механической полировки (ЭХМП), которая обеспечивает скорость съема материала около 15 мкм/ч, что значительно улучшает полировку SiC.